据消息，近日，宁波冠石半导体有限公司引入首台电子束掩模版光刻机。
据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术节点研发的重点设备。当前，冠石一期洁净车间设计产能为月产5000片180nm至28nm集成电路掩模版。相关负责人介绍，冠石正加速推进海外布局战略，并在世界一流半导体光掩模版制造技术班底的加持下，预计今年底，将陆续实现为国内外中高端集成电路掩模版提供制版服务。
据了解，宁波冠石半导体公司是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业，企业主要从事45-28nm半导体光掩模版的规模化生产。作为半导体产业链上游重要的原材料之一，光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。目前，我国高精度半导体光掩模版产品主要仍依赖于进口，国产化率极低。宁波冠石半导体建成投产后将成为国内技术能力先进的独立光掩模版生产企业，可填补国内高阶制程光罩空白，打破国外高端光掩模版的垄断局面，提高我国半导体光掩模产业的安全和可控性。
