3月30日上午，位于上海临港新片区的上海市重点工程——积塔半导体特色工艺生产线建设项目迎来重要施工节点。300毫米车规半导体集成电路制造基地设备正式入场，经过调试后预计于今年7月正式投产。
报道称，此次积塔半导体临港基地入场的光刻机或为干式DUV光刻系统I-line、ArF系列。据悉，TWINSCAN XT:400L是ASML最新的i-line系统，分辨率低至220nm，适用于200mm和300mm晶圆生产；TWINSCAN NXT:1470双级ArF系统，可以打印分辨率低至220nm的图案，被大多数逻辑和存储器客户所采用，并已被插入到大批量制造工艺中，用于200mm和300mm晶圆生产，实现每小时330个晶圆的生产率。
据了解，积塔半导体目前在上海临港新片区和徐汇区建有两个厂区，已建和在建产能包括６吋7万片/月、８吋11万片/月、12吋5万片/月、碳化硅3万片/月，为功率器件、汽车电子等核心芯片提供服务。
此次设备入场，不仅意味着积塔项目迈出了崭新的一步，也代表着东方芯港的建设日趋完善。
积塔半导体于2017年在上海临港注册成立，专注于半导体集成电路芯片特色工艺的研发和生产制造，已建成具有自主知识产权的电源管理芯片（PMIC）、控制器（Controller）、功率器件（IGBT、SGT、FRD、TVS等）、碳化硅器件（JBS、MOSFET）、微机电系统（MEMS）等特色工艺平台，产品广泛服务于汽车电子、工业控制、电源管理、智能终端，乃至轨道交通、智能电网等高端应用市场。
