近日,台积电在临时董事会上宣布,拟不超4.328亿美元收购英特尔手中IMS Nanofabrication(IMS)约10%股权,预计整个交易将在2023年第四季度完成。另外,台积电还宣布拟不超过1亿美元额度认购Arm股票。
知名分析师郭明錤指出,台积电这两笔投资主要目的为提高垂直整合能力,以确保从目前3nm的FinFET技术能顺利转换到2nm的GAA技术。其中,投资IMS可确保关键设备的技术开发与供应能满足2nm商用化的需求。
谈及半导体设备,荷兰光刻机设备巨头ASML多被大众所熟知。不过值得注意的是,在芯片制造的过程中,IMS提供的多光束掩模写入机也尤为重要。IMS于1985年在维也纳成立,是一家多电子束直写光刻设备厂商,产品主要应用于先进工艺节点光刻掩模制造。
简单来说,如果没有IMS的掩模写入器,所有EUV工艺技术都将陷入停顿。EUV工艺技术被用于7nm以来的所有台积电、英特尔的工艺节点。另外,三星的所有逻辑工艺技术都使用了EUV,该公司还在其最新的两代DRAM工艺技术中使用了EUV。
半导体厂商D2S的首席执行官Aki Fujimura表示:“在EUV开始进入大批量制造的同时,行业开始采用多光束掩模写入器,现在几乎所有的EUV掩模都是用多光束掩模写入器写入的。”

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