项目主要开发集成电路关键工艺材料，总投资额约5.8亿元，占地约104亩。预计年产500吨I线、KrF、ArF干/湿法光刻胶；年产10000吨光刻胶稀释剂；年产5000吨高选择比氮化钛刻蚀液系列产品；年产15000吨干法蚀刻清洗液系列产品。
项目拟于2023年取得施工许可证，2025年底前竣工，2026年6月底前投产。
光刻胶是一种对光敏感的混合液体，其主要作用是通过光化学反应，基于曝光、显影等光工序将所需要刻蚀的细微图形从光罩(掩模版)转移到待加工硅基片上。除了提高加工精度，光刻胶还可以保护硅基材免受腐蚀，阻止离子影响。
光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，广泛应用于350nm-14nm甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺。
资料显示，上海新阳是国内知名的半导体材料厂商，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术，其开发研制出的140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品被广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域。
上海新阳2022三季报显示，公司2022三个季度总主营收入8.77亿元，同比上升23.22%；归母净利润1394.76万元，同比下降81.2%。
其中，2022年第三季度，公司单季度主营收入3.28亿元，同比上升19.38%；单季度归母净利润403.61万元，同比上升115.1%。
