ASML和IMEC启用联合High-NA EUV光刻实验室

据消息，自ASML官网获悉，6月3日，比利时微电子研究中心（imec）与阿斯麦（ASML）宣布在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开设联合High-NA EUV光刻实验室（High NA EUV Lithography Lab），由ASML和imec共同运营。

声明中称，经过多年的构建和集成，该实验室已准备好为领先的逻辑和存储芯片制造商以及先进材料和设备供应商提供第一台原型高数值孔径EUV扫描仪（TWINSCAN EXE：5000）以及周围的处理和计量工具。