据媒体报道,有业界消息称,三星电子半导体研究所最近启动了1nm工艺的开发。部分参与2nm等最尖端工艺开发的研究员被选拔出来,组成了项目团队。在三星电子目前公开的晶圆代工工艺路线图中,2027年计划量产的1.4nm工艺是最尖端的。

有消息称,由于在即将量产的2nm工艺等技术上与台积电存在现实差距,三星电子计划加快1nm级工艺的开发,以创造反转机会。1nm工艺需要打破现有设计框架的新技术概念,并引入High-NA EUV光刻机等下一代设备。三星方面或将量产时间定在2029年之后。

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