据韩国科技媒体Etnews援引业内人士消息，SK海力士正与韩国化学材料企业东进世美肯（Dongjin Semichem）合作，共同开发高性能极紫外（EUV）光刻胶。此举旨在推动该关键半导体材料的本土化供应，减少对日本供应商的长期依赖。
合作背景：从贸易争端到国产化觉醒
这一合作的深层动力源自2019年的日韩贸易摩擦。当时日本政府对包括光刻胶在内的关键芯片材料实施出口管制，直接冲击了韩国半导体产业的供应链稳定。此后，韩国芯片企业持续推动供应链国产化战略。数据显示，韩国对日本光刻胶的进口依赖度已从2018年的93.2%降至2024年的65.4%，同期高纯度氟化氢进口额也从1.6亿美元大幅减少至6000万美元。
尽管SK海力士在2023年已通过子公司实现部分低规格EUV光刻胶的国产化，但在先进制程所需的高性能材料领域，日本企业仍占据主导地位。
技术挑战：追赶中的韩国材料产业
此次合作的核心目标是开发出“性能优于日本产品”的光刻胶，特别强调提升材料的光敏性（Sensitivity），以提高晶圆制造的生产效率。随着DRAM工艺持续微缩，EUV光刻层数逐代增加——从1a代的1层逐步提升至1d代的7层，对光刻胶性能的要求也日益严苛。
然而，EUV光刻胶的技术门槛远高于传统ArF光刻胶。虽然韩国在成熟制程用的ArF光刻胶领域已取得进展，但在用于7纳米及以下先进制程的EUV光刻胶方面仍明显落后。日本企业如JSR、信越化学、东京应化（TOK）凭借数十年积累的专利壁垒和生产经验，牢牢掌控着全球高端光刻胶市场。
行业展望：突围之路任重道远
对于此次合作，SK海力士方面回应称“具体的开发内容无法公开”，但确认公司正与包括材料商在内的多家企业持续合作以提升生产效率。业界分析指出，光刻胶研发周期长、技术壁垒高，且需面对日本企业的专利网络和市场竞争压力，合作成果尚难预测。
不过，这一举动标志着韩国半导体产业在关键材料自主化道路上迈出了更具雄心的步伐——不仅寻求替代，更致力于超越。在全球化供应链面临重构的背景下，韩国企业的材料攻关战役，已成为全球半导体产业竞争新维度的重要缩影。
