飞凯材料光刻胶业实现量产与导入

近日,飞凯材料在互动平台公开披露半导体光刻胶领域的最新业务进展,公司在该领域的产品布局与商业化进程均取得显著突破,进一步完善了国产半导体材料的供给能力。据悉,飞凯材料当前在半导体光刻胶领域的核心产品聚焦于i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料。其中,Barc材料作为光刻工艺中抑制衬底反射、提升图形精度的关键配套材料,能有效解决驻波效应等行业痛点,而i-line光刻胶则广泛应用于功率芯片、先

中国科研团队研制成功“量子芯片激光手术刀”

从安徽省量子计算工程研究中心获悉,中国首个专用于量子芯片生产的激光退火仪研制成功,该设备可解决量子芯片位数增加时的工艺不稳定因素,像“手术刀”一样精准剔除量子芯片中的“瑕疵”,增强量子芯片向多比特扩展时的性能,提升量子芯片的良品率

台积电:计划将特殊制程产能扩大50%,获将增添N4e节点

据外媒报道,日前,台积电在(TSMC)在五月中旬举行的欧洲技术研讨会上透露,计划到2027年将其特殊制程的产能扩大50%,以提升半导体供应链弹性。该计划不仅需要转换现有产能以满足特殊工艺的需求,甚至有可能为此建立新的晶圆厂。