俄罗斯发布EUV光刻机路线图:2036年实现10nm以下制程芯片制造

据外媒报道,近日,俄罗斯计算机与数据科学博士Dmitrii Kuznetsov曝光了俄罗斯最新的光刻机研发路线图,显示俄罗斯最快将在2026年完成65-40nm分辨率的光刻机的研发,2032年前完成28nm分辨率的光刻机的研发,并最终在2036年底前完成可以生产10nm以下先进制程的全新极紫外线光(EUV)光刻机的研发。

12月14日芯闻:美欲将华为排除在美财政系统外;消息称阿里遭禁售‘;新宙邦12亿特气项目落地;增芯项目投资70亿晶圆生产线动工;

外交部发言人汪文斌主持例行记者会。有记者提问,美国国会议员已出台法案,试图将华为等外国公司排除在美国的财政系统之外。有评论称,这是美方遏制中国科技企业的最新尝试。中方对此有何回应?汪文斌指出,我们坚决反对美方泛化国家安全概念,滥用国家力量,无理打压中国企业。美方破坏国际规则,也将反噬自身,最终将搬起石头砸自己的脚。中方将坚定维护中国企业的正当合法权益。