Rapidus开始安装日本首台ASML EUV光刻机

自Rapidus官网获悉,12月18日,Rapidus宣布其购入的首台ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在*IIM-1工厂交付并开始安装。这也是日本第一台用于大规模生产尖端半导体的EUV(极紫外)光刻系统。

台积电:计划将特殊制程产能扩大50%,获将增添N4e节点

据外媒报道,日前,台积电在(TSMC)在五月中旬举行的欧洲技术研讨会上透露,计划到2027年将其特殊制程的产能扩大50%,以提升半导体供应链弹性。该计划不仅需要转换现有产能以满足特殊工艺的需求,甚至有可能为此建立新的晶圆厂。