据消息，8月21日，东方晶源宣布其自主研发的新一代EOS（Electron Optical System，电子光学系统）“三箭齐发”，取得突破性成果，成功搭载到旗下电子束缺陷复检设备（DR-SEM）、关键尺寸量测设备（CD-SEM）、电子束缺陷检测设备（EBI），率先实现国产EOS在高端量测检测领域的应用，助力产品性能实现进一步攀升的同时，为国产电子束量测检测技术的发展进一步夯实了基础。
据介绍，电子束量测检测设备是芯片制造装备中除光刻机之外技术难度最高的设备类别之一，深度参与光刻环节、对制程节点敏感并且对最终产线良率起到至关重要的作用。其最为核心的模块就是EOS，决定设备的成像精度和质量，进而决定设备的性能。
东方晶源表示，公司在高速成像和多电子束技术均已取得重要突破，实现了相关技术的原理验证。未来，将不断进行技术深耕，将关键核心技术牢牢掌握在自己手中，以更加卓越的技术和产品引领电子束量测检测领域的发展，解决客户痛点问题，为我国集成电路产业的发展和进步贡献更多力量。
资料显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司成立于2014年，总部位于北京亦庄经济技术开发区，是一家专注于集成电路良率管理的企业，现主要产品为纳米级电子束缺陷检测装备（EBI）和关键尺寸量测装备（CD-SEM）、计算光刻产品（OPC）以及微电子设计与制造智能良率优化平台（HPOTM）。
