产业资讯

康盈半导体存储芯片总部及产业化基地项目开工

据衢州智造新城官微消息,9月29日,浙江康盈半导体科技有限公司(下简称“康盈半导体”)存储芯片总部及产业化基地项目在智造新城东港片区正式开工,将建设集先进存储芯片设计、研发、封测于一体的综合性生产基地。

俄罗斯发布EUV光刻机路线图:2036年实现10nm以下制程芯片制造

据外媒报道,近日,俄罗斯计算机与数据科学博士Dmitrii Kuznetsov曝光了俄罗斯最新的光刻机研发路线图,显示俄罗斯最快将在2026年完成65-40nm分辨率的光刻机的研发,2032年前完成28nm分辨率的光刻机的研发,并最终在2036年底前完成可以生产10nm以下先进制程的全新极紫外线光(EUV)光刻机的研发。

晶盛机电12英寸SiC中试线通线

据晶盛机电官微消息,9月26日,首条12英寸碳化硅衬底加工中试线在晶盛机电子公司浙江晶瑞SuperSiC正式通线,至此,浙江晶瑞SuperSiC真正实现了从晶体生长、加工到检测环节的全线设备自主研发,100%国产化,标志着晶盛在全球SiC衬底技术从并跑向领跑迈进,迈入高效智造新阶段。

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